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      首頁> > 產品中心 > 脈沖激光沉積系統(PLD)

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      脈沖激光沉積系統(PLD)
      品 牌 :SURFACE
      型 號 :PLD-Workstation
      產 地 :美國
      關鍵詞 :PLD、PZT、脈沖激光沉積

      脈沖激光沉積(PLD)是用于薄膜沉積的通用工藝,其主要優點是將材料按化學計量從靶轉移到基板。SURFACE PLD-Workstation是薄膜的優秀原型設計和研究系統,可輕松獲取新材料,特別是復雜氧化層。

       

      PLD-WorkstationPLD系統的所有組件(包括激光和激光氣體供應)集成到一個框架中。緊湊的設計使系統的使用靈活,并避免了許多硬件安裝工作,即使對于沒有PLD技術經驗的用戶,也可以使用PLD設備!

      全封閉激光束線,外部驅動鏡調節,可安全地防止紫外線激光輻射;

      激光和激光氣柜連接到外部排氣管。

      二、功能

      技術特點

      一體化解決方案,用于快速即插即用安裝

      先進的過程自動化,也適用于超晶格沉積

      耐氧襯底加熱器,具有1000°C的高溫測量功能

      可任選地提供基板的激光加熱

      靈活的先進機械手,具有交叉污染屏蔽功能

      為系統升級準備的真空室(RHEED,等離子源,OES / FTIR,...

      SURFACE Fluence Control選項,可獲得100%可重復的結果

      全封閉光束線,無憂無慮,安全操作

      真空室:內置靈活性

      真空室專為研究而設計。它具有適用于常見的原位分析工具或其他系統擴展的備用法蘭:

      光學分析方法:OESFTIR

      ? RHEED

      質譜

      額外的沉積或等離子體源

       

      此外,兩個窗口允許從兩個不同角度和兩個側面觀察沉積過程。主要工藝組件:靶材和基板操縱器。標準配置提供2“基板加熱器和4×2”內置靶材操縱器。

      為了調節工藝條件,用于將工藝氣體供應到腔室中的兩個質量流量控制器通道是標準的。它們可以自動控制過程氣氛和壓力。

      激光束將在兩個不同的入射角下撞擊靶材的每個點,因此不影響燒蝕材料的化學計量。為了實現均勻的靶材沉積,可以使用兩種不同的靶材運動模式:

      切換:目標傳送帶以連續運動的方式來回移動,以便激光束在距目標中心的任何半徑處轟擊靶材。該模式易于設置,只需要知道靶材直徑。

      掃描:移動目標傳送帶,使激光束在靶材上寫入定義的軌道。調整目標旋轉速度和軌道間距以匹配激光光斑尺寸和重復率,實現了靶材的均勻沉積。

      PLD-Lab:多個腔室,一個激光器

      如果需要更多吞吐量,可以將多個PLD工作站組合到共享一個激光器的系統中。帶有自動反射鏡的擴展光束線然后將激光束引導到所需的PLD工作站室。激光服務器計算機基于需求自動控制激光器和光束線,并且PLD室中的沉積過程被延遲,直到激光器可用于特定腔室。

      技術參數

      激光: 相干COMPexPro 201F205F,大脈沖能量0.7 J ;

      波長: KrF 248nm

      壓力控制: 2MFC通道,自動壓力控制

      基板加熱器: 直徑1“2”,1000°C(根據要求可提供其他尺寸)或激光加熱器

      基材旋轉: 050 rpm

      靶材: 4×2“,目標旋轉(0-50 rpm)和帶軌道控制的位置,均勻沉積

      控制系統: 基于PC的控制,集成TFT監視器

      IT功能: LAN連接,SURFWARE支持軟件

      尺寸: 2200×850×1600mm3

      三、應用

      約瑟夫結

      ? PZT薄膜

      金屬及復雜金屬氧化物

       

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