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      首頁> > 產品中心 > F3 單點膜厚測試儀

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      F3 單點膜厚測試儀
      品 牌 :KLA
      型 號 :F3
      產 地 :美國
      關鍵詞 :膜厚儀,薄膜厚度

          KLA的Filmetrics系列利用光譜反射技術實現薄膜厚度的精確測量,其測量范圍從nm-mm,可實現如光刻膠、氧化物、硅或者其他半導體膜、有機薄膜、導電透明薄膜等膜厚精確測量,被廣泛應用于半導體、微電子、生物醫學等領域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款產品,可測量從幾mm到450mm大小的樣品,薄膜厚度測量范圍1nm到mm級。F3-sX可測試眾多半導體及電介質層的厚度,可測大厚度達3毫米。F3-sX系列配置10微米的測試光斑直徑,因而可以快速容易的測量其他膜厚測試儀器不能測量的材料膜層。



          測量原理-光譜反射

          光譜橢圓偏振儀 (SE) 和光譜反射儀 (SR) 都是利用分析反射光確定電介質,半導體,和金屬薄膜的厚度和折射率。 兩者的主要區別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光, 而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。光譜反射儀測量的是垂直光,它忽略偏振效應 (絕大多數薄膜都是旋轉對稱)。 因為不涉及任何移動設備,光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強大透光率分析。光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的首選,而橢偏儀側重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間,兩種技術都可用。 


          一、 主要功能

          主要應用

          測量較厚薄膜厚度、折射率、反射率和穿透率:

          技術能力

          光譜波長范圍:380-1580 nm

          厚度測量范圍:10nm-3mm

          測量n&k小厚度:50 nm

          準確度:取較大值,50nm或0.2%

          精度:5nm

          穩定性: 5nm

          光斑大?。?0μm

          樣品尺寸:直徑從1mm到300mm或更大

          二、 應用

          半導體薄膜:光刻膠、工藝薄膜、介電材料

          液晶顯示:OLED、玻璃厚度、ITO

          光學鍍膜:硬涂層厚度、減反涂層

          高分子薄膜:PI、PC


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