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      首頁> > 產品中心 > 光學表面缺陷分析儀

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      光學表面缺陷分析儀
      品 牌 :Lumina
      型 號 :AT1
      產 地 :美國
      關鍵詞 :表面缺陷、缺陷檢測、缺陷分析

      一、簡介

      Lumina AT1光學表面缺陷分析儀可對玻璃、半導體及光電子材料進行表面檢測。Lumina AT1既能夠檢測SiC、GaN、藍寶石和玻璃等透明材料,又能對Si、砷化鎵、磷化銦等不透明基板進行檢測,其價格優勢使其成為適合于研發/小批量生產過程中品質管理及良率改善的有力工具。

       

      Lumina AT1結合散射測量、橢圓偏光、反射測量與表面斜率等基本原理,以非破環性方式對Wafer表面的殘留異物,表面與表面下缺陷,形狀變化和薄膜厚度的均勻性進行檢測。

      1.偏振通道用于薄膜、劃痕和應力點;

      2.坡度通道用于凹坑、凸起;

      3.反射通道用于粗糙表面的顆粒;

      4.暗場通道用于微粒和劃痕;

      二、 功能

      主要功能

      1. 缺陷檢測與分類

      2. 缺陷分析

      3. 薄膜均一性測量

      4. 表面粗糙度測量

      5. 薄膜應力檢測

      技術特點

      1.透明、半透明和不透明的材料均可測量,比如硅、化合物半導體或金屬基底;

      2.實現亞納米的薄膜涂層、納米顆粒、劃痕、凹坑、凸起、應力點和其他缺陷的全表面掃描和成像;

      3.150mm晶圓全表面掃描的掃描時間為3分鐘,50x50mm樣品30秒內可完成掃描并顯示結果;

      4.高抗震性能,系統不旋轉,形狀無關,可容納非圓形和易碎的基底材料;

      5.高達300x300mm的掃描區域;可定位缺陷,以便進一步分析;技術能力

      三、應用案例

      1. 透明/非透明材質表面缺陷檢測

       

      2. MOCVD外延生長成膜缺陷管控

      3. PR膜厚均一性評價

      4. Clean制程清洗效果評價

      5. WaferCMP后表面缺陷分析

      6. 多個應用領域,如AR/VR、Glass、光掩模版、藍寶石、Si wafer



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