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      電子束曝光系統
      品 牌 :Elionix
      型 號 :ELS-F125/F100/HS50
      產 地 :日本
      關鍵詞 :電子束曝光,電子束直寫

      ELS-F125是Elionix推出的世界上首臺加速電壓達125KV的電子束曝光系統,其可加工線寬下限為5nm的精細圖形。(以下參數基于ELS-F125)




      ELS-F125具有以下優點:

      l  超高書寫精度

      - 5 nm 線寬精度 @125 kV

      - 1.7 nm 電子束直徑&鄰近效應小化 @125 kV



      l  大通量、均勻性好

      - 寬視野書寫:500um視場下10 nm線寬

      - 高束流下電子束直徑依然很小,大通量而不影響分辨率,2 nm電子束直徑@1 nA



      l  界面用戶友好

      基于Windows系統的CADSEM界面:

      -簡單易用的圖案設計功能

      -易于控制的電子束條件



      二、主要功能

      主要應用

      納米器件的微結構

      集成光學器件,如光柵,光子晶體等

      NEMS結構,復雜精細結構

      光刻掩模板,壓印模板

      技術能力

          


      三、應用


          

          
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