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      首頁> > 產品中心 > 離子束刻蝕/沉積系統

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      離子束刻蝕/沉積系統
      品 牌 :Elionix
      型 號 :EIS-200
      產 地 :日本
      關鍵詞 :離子束蝕刻,干法蝕刻,離子束減薄,離子束沉積

      EIS-200是Elionix推出的一款基于電子回旋共振技術(ECR)的小型離子束蝕刻系統,特別適合于科研用離子束刻蝕、減薄,清洗、沉積等。




      EIS-200原理:




      利用ECR技術產生高能Ar+離子束,Ar+離子束通過電場加速到達樣品表面,對樣品進行物理的轟擊達到刻蝕作用。

             

      EIS-200具有以下優點:

      ?   方向性好,各向異性,陡直度高,側向刻蝕少

      ?   分辨率高

      ?   不受刻蝕材料限制,可對石英等材料進行蝕刻

      ?   可控制蝕刻Taper

      ?   可以設定多樣的實驗條件

      ?   NPD(納米圖案成膜單元)選項(如下圖)



             主要功能


      納米級圖案刻蝕

      高深寬比蝕刻

      離子束沉積

      表面清潔

      離子減薄


           技術能力

          


      應用

      納米級圖案刻蝕、高深寬比蝕刻、表面清潔、離子減薄等

      ?   SiO2 on Si substrate



      ?   Diamond Substrate(金剛石)

              

      ?   Quartz (Mask)



                   

      ?   Oriented PET film

           



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