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      首頁> > 產品中心 > F40顯微膜厚測量儀

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      F40顯微膜厚測量儀
      品 牌 :KLA-Filmetrics
      型 號 :F40
      產 地 :美國
      關鍵詞 :膜厚儀,薄膜厚度

             KLA 的 Filmetrics 系列利用光譜反射技術實現薄膜厚度的精確測量,其測量范圍從 nm-mm,可實現如光刻膠、氧化物、硅或者其他半導體膜、有機薄膜、導電透明薄膜等膜厚精確測量,被廣泛應用于半導體、微電子、生物醫學等領域。Filmetrics 具有 F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60- t 等多款產品,可測量從幾 mm 到 450mm 大小的樣品,薄膜厚度測量范圍1nm到mm級。F40用于測量光斑 <1μm 的薄膜膜厚。

             測量原理-光譜反射

             光譜橢圓偏振儀 (SE) 和光譜反射儀 (SR) 都是利用分析反射光確定電介質,半導體,和金屬薄膜的厚度和 折射率。 兩者的主要區別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光, 而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。光譜反射儀測量的是垂直光,它忽略偏振效應 (絕大多數薄膜都是旋轉對稱)。 因為不涉及任何移動設備,光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強大透光率分析。光譜反射儀通常是薄膜厚度超過 10um 的首選,而橢偏儀側重薄于10nm 的膜厚。在 10nm 到 10um 厚度之間,兩種技術都可用。 而且具有快速,簡便,成本低特點的光譜反射儀通常是更好的選擇。



          主要應用



          測量厚度、折射率、反射率和穿透率:



        • 單層膜或多層膜疊加
        • 單一膜層
        • 液態膜或空氣層



          技術能力



          光譜波長范圍:190-1700 nm



          厚度測量范圍:1nm-250 μm



          測量n&k小厚度:50 nm



          準確度:取較大值,1nm或0.2%



          精度:0.02nm



          穩定性:0.05nm



          光斑大?。盒】蛇_0.5μm



          樣品尺寸:直徑從1mm到300mm或更大



          半導體薄膜:光刻膠、工藝薄膜、介電材料



          液晶顯示:OLED、玻璃厚度、ITO



          光學鍍膜:硬涂層厚度、減反涂層



          高分子薄膜:PI、PC









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