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      首頁> > 產品中心 > F30 在線膜厚測試儀

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      F30 在線膜厚測試儀
      品 牌 :KLA-Filmetrics
      型 號 :F30
      產 地 :美國
      關鍵詞 :膜厚儀、薄膜厚度

      一、 簡介




      KLA的Filmetrics系列利用光譜反射技術實現薄膜厚度的精確測量,其測量范圍從nm-mm,可實現如光刻膠、氧化物、硅或者其他半導體膜、有機薄膜、導電透明薄膜等膜厚精確測量,被廣泛應用于半導體、微電子、生物醫學等領域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款產品,可測量從幾mm到450mm大小的樣品,薄膜厚度測量范圍1nm到mm級。Filmetrics F30 系列的產品通過光譜反射率系統,實時在金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)、分子束外延(MBE)和其他沉積工藝中測量沉積率、沉積層厚度、光學常數 (n 和 k 值) 和半導體以及電介質層的均勻性,被測量的薄膜可以是平滑和半透明的,或輕度吸收的  F30可檢測監控反射率、厚度和沉積率通過分子束外延和金屬有機化學氣相沉積技術,測量薄膜。 這實際上包括從氮化鎵鋁到鎵銦磷砷的任何半導體材料.


             測量原理-光譜反射

      光譜橢圓偏振儀 (SE) 和光譜反射儀 (SR) 都是利用分析反射光確定電介質,半導體,和金屬薄膜的厚度和 折射率。 兩者的主要區別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光, 而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。光譜反射儀測量的是垂直光,它忽略偏振效應 (絕大多數薄膜都是旋轉對稱)。 因為不涉及任何移動設備,光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強大透光率分析。光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的首選,而橢偏儀側重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間,兩種技術都可用。 而且具有快速,簡便,成本低特點的光譜反射儀通常是更好的選擇。

      二、 主要功能

      主要應用

      測量沉積率、沉積層厚度、光學常數 (n 和 k 值) 和半導體以及電介質層的均勻性

      ?   平滑和半透明薄膜

      ?   輕度吸收薄膜

      ?   實時測量膜厚

      技術能力

      光譜波長范圍:380-1050 nm

      厚度測量范圍:15nm-70 μm

      極大地提高生產力

      低成本:幾個月就能收回成本

      A精確 :測量精度高于 ±1%

      快速:幾秒鐘完成測量

      非侵入式:完全在沉積室以外進行測試

      易于使用:直觀的 Windows? 軟件

      幾分鐘就能準備好的系統

      三、 應用

      半導體制造:光刻膠、氧化物、氮化物

      液晶顯示器:液晶間隙、聚酰亞胺保護膜、納米銦錫金屬氧化物

      生物醫療原件:聚合物/聚對二甲苯涂層、生物膜/氣泡球厚度、藥物涂層支架

      微機電系統:硅膜、氮化鋁/氧化鋅薄膜濾鏡

      光學鍍膜:硬鍍膜、增透鍍膜、Filters濾光

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