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      首頁> > 產品中心 > F60 全自動膜厚測試儀

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      F60 全自動膜厚測試儀
      品 牌 :KLA-Filmetrics
      型 號 :F60
      產 地 :美國
      關鍵詞 :膜厚儀、薄膜厚度、生產環境、自動繪測

      一、 簡介

      KLA的Filmetrics系列利用光譜反射技術實現薄膜厚度的精確測量,其測量范圍從nm-mm,可實現如光刻膠、氧化物、硅或者其他半導體膜、有機薄膜、導電透明薄膜等膜厚精確測量,被廣泛應用于半導體、微電子、生物醫學等領域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款產品,可測量從幾mm到450mm大小的樣品,薄膜厚度測量范圍1nm到mm級。Filmetrics F60 系列的產品可像F50產品一樣測繪薄膜厚度和折射率,但它增加了許多用于生產環境的功能。 這些功能包括凹槽自動檢測、自動基準確定、全封閉測量平臺、預裝軟件的工業計算機,以及升級到全自動化晶圓傳輸的機型。不同的 F60-t 儀器根據波長范圍加以區分。較短的波長 (例如, F60-t-UV) 一般用于測量較薄的薄膜,而較長的波長則可以用來測量更厚、更不平整以及更不透明的薄膜。 .

      測量原理-光譜反射

      光譜橢圓偏振儀 (SE) 和光譜反射儀 (SR) 都是利用分析反射光確定電介質,半導體,和金屬薄膜的厚度和 折射率。 兩者的主要區別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光, 而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。光譜反射儀測量的是垂直光,它忽略偏振效應 (絕大多數薄膜都是旋轉對稱)。 因為不涉及任何移動設備,光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強大透光率分析。光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的首選,而橢偏儀側重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間,兩種技術都可用。 而且具有快速,簡便,成本低特點的光譜反射儀通常是更好的選擇。





      二、 主要功能

      測量厚度、折射率、反射率和穿透率

      ?   單層膜或多層膜疊加

      ?   凹槽自動檢測

      ?   自動基準確定

      ?   全自動化晶圓傳輸

      技術能力

      光譜波長范圍:190-1700 nm

      厚度測量范圍:5nm-450μm

      集成平臺/光譜儀/光源裝置(不含平臺)

      4", 6" and 200mm 參考晶圓

      TS-SiO2-4-7200 厚度標準

      真空泵

      備用燈

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